Washington ha speso anni e capitale politico per impedirlo, erigendo un muro di sanzioni volto a isolare tecnologicamente Pechino, eppure, in un laboratorio ad alta sicurezza di Shenzhen, quel muro sembra aver ceduto. Secondo un'esclusiva pubblicata oggi da Reuters, scienziati cinesi hanno completato un prototipo funzionante di una macchina per la litografia a ultravioletti estremi (EUV). Come può incidere sui giganti tech occidentali come ASML?
Il "Progetto Manhattan" cinese
Si tratta di un punto di svolta fondamentale nella "Guerra Fredda" tecnologica: le macchine EUV sono l'unico strumento esistente in grado di produrre i semiconduttori più avanzati, essenziali per l'intelligenza artificiale, gli smartphone di nuova generazione e gli armamenti moderni. Fino a ieri, questa tecnologia era un monopolio esclusivo dell'azienda olandese ASML. Oggi, la Cina ha dimostrato di averne replicato il funzionamento.
Fonti interne hanno descritto l'iniziativa come la versione cinese del "Progetto Manhattan", lo sforzo bellico statunitense per la bomba atomica. A coordinare le operazioni è il colosso Huawei, che - nonostante le pesanti sanzioni USA - gestisce una rete di istituti di ricerca statali e aziende private.
I dettagli emersi tratteggiano un'operazione di spionaggio industriale e ingegneria inversa senza precedenti. Per colmare il divario tecnologico, la Cina ha reclutato ex ingegneri veterani di ASML, attirati con bonus alla firma fino a 700.000 dollari. Una volta assunti, questi tecnici avrebbero operato all'interno del compound di Shenzhen sotto falso nome, muniti di documenti d'identità fittizi per garantire la totale segretezza del progetto e proteggere le loro identità da controlli esterni.
Un prototipo "gigante" e le sfide tecniche
Sebbene il successo politico sia innegabile, la realtà tecnica descritta dalle fonti invita alla cautela. Il prototipo cinese è ben diverso dalle macchine olandesi. Mentre un sistema EUV di ASML ha le dimensioni di un autobus, la versione cinese occupa quasi un intero piano di una fabbrica.
La ragione di questo gigantismo risiede nella componentistica. Non avendo accesso alle ottiche di precisione tedesche della Carl Zeiss (partner esclusivo di ASML, bloccato dalle sanzioni), gli ingegneri cinesi hanno dovuto ingrandire il sistema per ottenere la potenza necessaria a generare la luce ultravioletta. Il macchinario è operativo e genera il plasma necessario, ma è stato definito "grezzo" rispetto alla controparte occidentale e non ha ancora stampato chip funzionanti pronti per il mercato.
Le tempistiche: obiettivo 2030
Il governo cinese ha fissato l'obiettivo di produrre chip funzionanti con questa macchina entro il 2028, ma fonti vicine al progetto ritengono il 2030 una data più realistica.
Se confermata, questa tempistica smentirebbe le previsioni degli analisti occidentali e dello stesso CEO di ASML, Christophe Fouquet, che solo pochi mesi fa stimava necessari "molti anni" prima che la Cina potesse replicare tale tecnologia. Il divario si sta riducendo più velocemente del previsto. Se Pechino riuscirà a scalare la produzione industriale entro la fine del decennio, l'obiettivo americano di mantenere la Cina "generazioni indietro" nella corsa ai chip potrebbe rivelarsi fallimentare.